Page 250 - 水资源保护技术与方法

第九章 半导体废水技术发展

中的重金属离子、有机物和溶解性固体，使出水水质达到生产用水标准。但膜分
离技术存在膜污染问题，需要定期进行化学清洗，增加了运行成本。

2. 蒸发浓缩技术
蒸发浓缩是通过加热使废水中的水分蒸发，实现污染物的浓缩和水资源的回
收。对于含有高浓度盐分或难降解有机物的研磨废水，蒸发浓缩技术具有较好的
处理效果。某电镀研磨废水处理项目采用多效蒸发技术，将废水蒸发浓缩后，冷
凝水回用于生产，浓缩液进一步处理，实现了水资源的循环利用和污染物的减量。

（二）固体废弃物回收
1. 磨料回收
对于含有贵重磨料（如金刚石、碳化硅）的研磨废水，可通过物理或化学方
法回收磨料。在光学镜片研磨废水中，采用磁选法可回收废水中的磁性磨料；对

于非磁性磨料，可通过化学沉淀法使其从废水中分离出来，经过洗涤、干燥后重
新回用。
2. 重金属回收
研磨废水中的重金属具有较高的回收价值。通过离子交换、电解等方法可实

现重金属的回收。在半导体研磨废水处理中，采用离子交换树脂吸附废水中的铜
离子，吸附饱和后用酸溶液洗脱，可得到高纯度的铜离子溶液，进一步通过电解
得到金属铜。

六、研磨废水回收技术典型案例

（一）某半导体芯片制造企业研磨废水处理项目
1. 项目背景
该企业主要生产 12 英寸晶圆，每日产生研磨废水 500t，废水中含有高浓度

的 SiO 2 磨料、铜离子和酸性化学药剂，pH 值为 2~3，COD 浓度为 3000~5000mg/L。
2. 处理工艺
采用“中和沉淀—超滤—纳滤—反渗透—蒸发浓缩”组合工艺。首先，在中
和反应池中投加石灰乳，将 pH 值调节至 7~8，使铜离子生成氢氧化铜沉淀；然

后通过超滤去除废水中的 SiO 2 磨料颗粒；纳滤和反渗透进一步去除有机物和重
金属离子；反渗透浓水进入蒸发浓缩系统，冷凝水回用于生产，浓缩液进行固化
处理。

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