Page 248 - 水资源保护技术与方法

第九章 半导体废水技术发展

处理，转速可达 3000~5000r/min，可快速分离出废水中的重金属颗粒和磨料，分
离效率比重力沉淀提高 3~5 倍。但离心分离设备投资成本较高，运行过程中能耗
较大，限制了其在一些中小型企业的应用。

三、研磨废水化学处理技术

（一）中和处理
研磨废水的 pH 值差异较大，酸性或碱性废水需进行中和处理。对于酸性废

水，常用的中和剂有石灰 Ca（OH） 2 、氢氧化钠（NaOH）等；对于碱性废水，
可采用硫酸（H 2 SO 4 ）、盐酸（HCl）进行中和。在某半导体研磨废水处理工程中，
通过投加石灰将酸性废水的 pH 值从 2.5 调节至 7~8，不仅中和了酸性，还使废
水中的重金属离子生成氢氧化物沉淀，去除率可达 70%~80%。但中和处理过程

中会产生大量污泥，增加了后续污泥处理的负担。
（二）混凝沉淀
混凝沉淀是通过投加混凝剂和助凝剂，使废水中的胶体和细小悬浮物聚集形
成大颗粒絮体，然后通过沉淀去除。常用的混凝剂有聚合氯化铝（PAC）、聚合

硫酸铁（PFS），助凝剂为聚丙烯酰胺（PAM）。在光学镜片研磨废水处理中，
当 PAC 投加量为 200~300mg/L，PAM 投加量为 1~2mg/L 时，废水的浊度去除率
可达 90% 以上，同时对废水中的表面活性剂也有一定的去除效果。
（三）化学氧化

1. 芬顿氧化
2+
芬顿氧化是利用亚铁离子（Fe ）和过氧化氢（H 2 O 2 ）反应产生的羟基自由
基（·OH），氧化分解废水中的有机物和重金属络合物。在处理含有难降解有
机物的机械研磨废水时，芬顿氧化可使废水的 COD 去除率达到 50%~70%。但芬

顿氧化过程中需要消耗大量的药剂，且会产生含铁污泥，处理成本较高。
2. 臭氧氧化
臭氧（O 3 ）具有强氧化性，能有效去除废水中的有机物、异味和色度。在半
导体研磨废水处理中，臭氧氧化可将废水中的有机抛光液氧化分解，降低废水的

COD，同时对重金属离子有一定的氧化沉淀作用。然而，臭氧制备成本较高，且
臭氧在水中的溶解度较低，需要特殊的曝气设备提高臭氧利用率。

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